비대면 폰테크 병원에서 퇴원한 후 홀로 일상생활을 이어가기 어려운 어르신들을 위한 회복 공간인 ‘중랑 안심 중간집’이 첫 입주자를 맞았다.
3일 서울 중랑구에 따르면 퇴원 환자의 일상 복귀를 돕기 위해 만든 ‘중랑 안심 중간집’에 지난달 24일 첫 입주자가 들어왔다. 중간집은 서울 중랑구 신내동 신내의료안심주택 내 4개 호실에 마련됐다.
입주 대상은 중랑구에 주소를 둔 65세 이상 노인 가운데 퇴원 후 혼자 생활하는 데 어려움을 겪는 이들이다. 서울의료원, 북부병원, 녹색병원, 동부제일병원 등 관내 협력 병원에서 구청에 퇴원 후 회복이 필요한 환자를 전달하면 구청 내에서 진료 기록 등을 심사해 입주 대상을 선정한다. 중간집 입주를 희망하는 사람이 직접 행정복지센터에 문의해도 된다.
입주자들은 중간집에서 의료·주거·돌봄 서비스를 한 번에 받을 수 있다. 입주 초기에는 의사와 간호사가 방문해 건강 상태를 진단한다. 주 5회 요양보호사가 방문해 돌봄 서비스도 제공한다.
중간집에 처음 입주한 임모씨(69)는 만성 당뇨와 당뇨족 등으로 서울의료원과 서울특별시 북부병원에 입·퇴원을 반복해 왔다. 중랑구 관계자는 “수술 후 인지능력이 저하되고 거동에 불편을 겪던 어르신을 중간집에 모셨는데, 재활 운동 처방과 복약 지도를 받으면서 회복 속도가 굉장히 좋아졌다”고 밝혔다.
류경기 중랑구청장은 “의료·돌봄·주거 서비스를 연계해 어르신들이 안정적으로 일상에 복귀할 수 있도록 지역 중심의 지원 체계를 강화해 나가겠다”고 말했다.
연일 지속되는 폭염에 지역재난안전대책본부 비상 1단계를 가동한 대전시가 무더위쉼터와 관내 건설 현장 등에 대한 폭염 대응 상황 점검에 나섰다.
지영한 대전시 정무경제과학부시장은 4일 무더위쉼터로 운영 중인 관내 경로당을 방문해 냉방시설 운영 실태와 이용 현황 등을 점검했다.
지 부시장은 이날 건설공사 현장도 방문해 폭염 대응 안전수칙 이행 여부를 점검하고, 충분한 휴식 시간 보장과 온열질환 예방조치 등 노동자 보호 대책 이행 여부를 확인했다.
시는 지역에 내려진 폭염경보에 대응하기 위해 전날 폭염 위기경보를 ‘심각’ 단계로 격상하고, 지역재난안전대책본부 비상 1단계를 긴급 가동했다.
각 자치구에 독거 노인과 노숙인, 야외 작업자 등 폭염 취약계층에 대한 안전 관리와 예찰 활동을 당부했으며, 매일 폭염 대응 현장을 점검해 시민 안전을 확보하겠다는 계획이다.
유관기관 비상근무체계를 유지하면서 폭염특보와 기온 변화 등 기상 상황을 수시 모니터링해 인명 피해 우려가 있는 경우 즉각적인 현장 대응에 나설 방침이다.
지 부시장은 “폭염은 시민의 생명과 안전을 위협하는 재난으로, 현장에서 작은 위험 요소도 놓치지 않는 세심한 대응이 필요하다”며 “특히 어르신과 야외 노동자 등 폭염에 취약한 시민들의 안전을 지킬 수 있도록 현장 중심 대응을 더욱 강화하겠다”고 말했다.
대전에는 지난 1일부터 폭염경보가 발효된 상태로, 이날 낮 최고기온은 37도에 이를 것으로 보인다.
3D 낸드 반도체 안에서 데이터가 오가는 통로의 저항을 줄일 수 있는 기술이 개발됐다. 반도체 결정이 자라는 방향을 일정하게 유도해 고층 건물처럼 쌓아 올리는 차세대 메모리의 성능 저하 문제를 줄이는 방식이다.
포항공대(POSTECH)는 황현상 신소재공학과·반도체공학과 교수와 권오혁 신소재공학과 통합과정생 연구팀이 삼성전자 반도체연구소·메모리사업부와 함께 3D 낸드 채널 내부 실리콘 결정의 성장 방향을 제어하는 기술을 개발했다고 7일 밝혔다.
낸드는 전원이 꺼져도 데이터가 사라지지 않는 저장용 반도체다. 스마트폰과 USB 메모리, 데이터센터 저장장치 등에 쓰인다. 더 많은 데이터를 저장하기 위해 정보를 담는 셀을 수직으로 쌓아 올린 구조가 3D 낸드다.
문제는 층수가 높아질수록 데이터를 전달하는 수직 통로인 실리콘 채널도 길어진다는 점이다. 실리콘은 작은 결정들이 모여 만들어지는데, 결정과 결정 사이의 경계는 전류 흐름을 방해한다. 채널이 길수록 이런 경계가 늘어나 저항이 커지고, 데이터 처리 속도도 떨어질 수 있다.
이 문제를 해결할 기술로 ‘금속 유도 측면 결정화’가 주목받아 왔다. 니켈을 촉매로 사용해 비교적 낮은 온도에서 고품질 실리콘 결정을 만드는 방식이다. 하지만 결정이 자라는 방향을 제어하기 어려웠다. 바늘 모양 결정이 제각각 자라다가 서로 부딪히면 성장이 멈추고, 니켈이 채널 안에 남는 문제도 있었다.
연구팀은 결정이 자라기 시작하는 출발점에 방향을 잡아주는 ‘시드층’을 만드는 방식으로 한계를 풀었다. 실리콘 기판 위 니켈 박막에 마이크로웨이브 어닐링을 적용해 결정이 일정한 방향으로 자라도록 유도했다. 전자레인지가 음식 내부의 특정 분자에 열을 전달하듯, 니켈과 실리콘이 맞닿은 부분에 에너지를 집중시키는 원리다.
연구팀이 이 시드층을 3D 낸드 채널 표면에 적용하자 결정은 무작위로 퍼지지 않고 한 방향으로 길게 이어졌다. 실제 155단 3D 낸드 구조에서도 채널 위쪽부터 아래 끝까지 균일하게 정렬된 결정을 구현했다.
이 기술은 고단수 3D 낸드에서 데이터 이동 효율을 높이고, 더 많은 데이터를 빠르고 안정적으로 처리하는 메모리 반도체 개발에 활용될 수 있다.
황현상 교수는 “적층 수가 늘어나는 차세대 3D 낸드에서도 채널 전체를 균일하게 결정화할 수 있는 실질적인 해법을 제시했다”고 말했다.
이번 연구는 삼성전자의 산학 공동 연구 지원을 받아 진행됐다. 연구 결과는 반도체 분야 국제 학회인 ‘2026 IEEE 국제 VLSI 기술 및 회로 심포지엄’에서 발표됐으며, 국제 학술지 ‘네이처 일렉트로닉스’의 ‘Research Highlights’에 선정됐다.

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